Puissant 105um 405nm 20W Module laser couplé à fibres UV pour l'équipement de lithographie

Ce puissant module laser couplé à fibre violette 105um 405nm 20W est un composant de base de qualité professionnelle exclusivement conçu pour les équipements de lithographie, intégrant la caractéristique de photon haute énergie du laser violet 405nm, une sortie haute puissance de 20W et une transmission de couplage de fibre de précision de 105μm. Il fournit une énergie laser stable et focalisée pour l'exposition des résines photosensibles et les micro-motifs, devenant ainsi un élément clé des systèmes de lithographie à semi-conducteurs, PCB et microélectroniques, garantissant un traitement lithographique haute résolution et haute efficacité.

Avantages techniques de base pour les équipements de lithographie

- Optimisation de la lithographie de longueur d'onde violette de 405 nm : 405 nm est la longueur d'onde optimale pour les photorésists grand public (ton positif/négatif), permettant une absorption efficace des photons pour déclencher des réactions photochimiques. Le laser couplé à une fibre de 405 nm 20 W prend en charge une résolution de niveau submicronique dans le traitement lithographique, surpassant les longueurs d'onde plus longues dans le rendu de motifs fins, ce qui est essentiel pour la fabrication de puces semi-conductrices et de circuits imprimés haute densité.

- Puissance élevée de 20 W pour une exposition rapide : avec une sortie CW stable, la puissance élevée de 20 W accélère la vitesse d'exposition de la résine photosensible de 40 % par rapport aux modules de 10 W. Il réduit le temps d'exposition par unité de surface à ≤50 ms/cm², répondant ainsi aux exigences de haut débit des équipements de lithographie produits en série tout en garantissant une distribution uniforme de l'énergie.

- Transmission de précision de couplage de fibre de 105 μm : équipé d'une fibre de silice de diamètre de noyau de 105 μm (ouverture numérique NA = 0,22, efficacité de couplage ≥ 85 %), il transmet l'énergie laser avec une perte minimale. Le petit noyau de la fibre garantit un faisceau focalisé pour un motif photorésistant précis, et sa flexibilité permet un alignement avec le chemin optique de l'équipement de lithographie, atteignant des zones d'exposition étroites ou complexes.

- Stabilité et fiabilité de qualité lithographie : adopte un réseau laser à semi-conducteurs de haute puissance et un système de refroidissement actif (refroidissement par eau + dissipateur thermique), maintenant un fonctionnement stable à 20 ℃-25 ℃ (température du processus de lithographie). Il prend en charge une exposition continue 24h/24 et 7j/7 (durée de vie > 1 000 heures) avec une dérive de puissance ≤ 0,5 %/1 000 heures, évitant ainsi la distorsion du motif lithographique causée par les fluctuations de puissance.